导语：国产替代崛起，十大“光刻胶”概念龙头公司一览（附名单）

光刻胶是一种特殊的涂料，广泛应用于微电子制造工艺中。半导体、光通信和显示器等领域都需要使用光刻胶。在半导体制造过程中，光刻胶被涂布在芯片表面，然后通过曝光和显影的过程，对光刻胶进行处理，最终形成所需的图案。这些图案可以是传送电子或其他信息所需的线路、电路板、微米级的模组。光刻胶的作用相当于一个掩膜，通过光照在需要制造的区域，从而在芯片表面上形成所需的图形和结构。

1、容大感光

相关概念：容大感光是一家提供光刻胶解决方案的行业龙头公司，主要包括紫外线正胶和紫外线负胶两大类，以及稀释剂、显影液、剥离液等配套，主要应用于二极管和半导体等领域，帮助加工厂实现精密微细加工。

2、雅克科技

相关概念：是一家生产半导体材料的科技公司，其子公司斯洋国际与LG化学签署了人民币3.35亿元的协议，购买LG的彩色光刻胶部分经营资产。这一合作主要旨在强化公司在光刻胶领域的竞争优势，提高设备品质和生产效率。

3、上海新阳

相关概念：子公司芯刻微材料，进行193nm（ArF）干法光刻胶研发和产业化项目，成立旨在拓展公司在光刻胶领域的业务，提供高品质的光刻胶产品和服务。

4、晶方科技

相关概念：晶方科技是从事半导体精密设备、工业自动化、汽车、消费电子等领域的公司，其光刻机龙头ASML为公司参与并购的Anteryon公司主要合作企业，晶方科技致力于研发和生产高品质的光刻胶材料，以满足不同的需求。

5、晶瑞电材

相关概念：公司是一家从事微电子化学品的高新技术企业，主要包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。公司致力于提供全面的化学品解决方案，在不断创新和发展中推动着光刻胶领域的进步。

6、格林

相关概念：专注于LCD显示面板领域的企业，主要应用在基板上颗粒和有机物的清洗、光刻胶的显影和剥离、电极的蚀刻等过程中。在技术专利方面拥有较强的实力，提供高品质的解决方案。

7、鼎龙股份

相关概念：布局有显示用光刻胶和封装光刻胶系列的公司，目前公司显示用光刻胶已经通过国内显示客户验证，并在逐步提高产能。半导体光刻胶是一个技术门槛相对较高的领域，公司继续通过技术创新和不断优化产品结构，增强在行业内的竞争力。

8、南大光电

相关概念；公司掌握了MO源、半导体前驱体材料、ArF光刻胶及配套材料等高纯电子材料的核心技术和生产工艺，目前已完成一条193nm光刻胶生产线的安装，正在进行调试阶段。

9、捷捷微电

相关概念：公司拥有“高粘度光刻胶无胶丝匀胶装置”专利，以及子公司捷捷半导体拥有“一套光刻胶残胶收集装置。

10、江化微

相关概念：专注于湿电子化学品的研发、生产和销售，包括超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等，先后有高效酸性剥离液、铝钼蚀刻液、高分辨率显影液、钛-铝-钛金属层叠膜用蚀刻液等多类高新技术产品。

总结

近年来，中国光刻胶市场蓬勃发展，未来前景广阔。光刻胶行业将持续受益于半导体产业高速增长以及智能手机、平板电脑、电子游戏机和电动汽车等消费品的广泛应用。同时，随着5G网络普及和人工智能技术不断发展，芯片制造工艺对光刻胶高品质和性能的要求也越来越高。预计未来几年，中国光刻胶市场将保持强劲增长态势，市场规模不断扩大。国内光刻胶企业也将在研发方面加强技术投入，提高产品质量和性能，进一步增强竞争力。由此可以预见，中国光刻胶行业未来发展前景极为乐观。