挑战30天在头条写日记# 大家好，最近很多人都在关注国产半导体行业的发展。相信大家也知道，这个行业是非常重要的，因为半导体是现代科技的基础，几乎所有的电子产品都离不开它。

今天，我们就来了解下国内高校、科研院所中光刻机的现状，据统计：在国内高校、科研院所中共有291台光刻设备可以共享，涉及到中国22个省（直辖市/自治区）。其中，北京院、校以83台光刻设备居全国科研单位的首位，主要分布于中科院半导体研究所、北京大学、清华大学。本数据截至日期为2021年1月。

先说结论：这291台光刻设备中，全国院、校的光刻机依然为传统紫外光刻机占主流，占比达58%。而电子束曝光机及激光直写设备占比都是21%。其中电子束曝光机由于刻蚀速率太低。所以，主要就是用于科研或掩模版制作。

德国SUSS MA12 Gen3 手动光刻机

但是在整体品牌方面，全球光刻三大巨头ASML、尼康、佳能的光刻设备在全国高校及科研院所中一台都没有。这方面主要和我们的院、校主要是做科研，它们对光刻速率要求不敏感，而紫外光刻机、电子束曝光机和激光直写设备已经可以在一定程度上满足科研需求有关系。

美国ABM全自动光刻机

其中在传统紫外光刻机中：德国SUSS占比45%，美国ABM占比22%；

德国RaithPioneer Two 电子束光刻机

而在电子束光刻机中，德国Raith占比达45%，日本CRESTEC占有一定比例。

德国Heidelberg DWL 66+激光直写光刻机

激光直写系统适用于光掩膜版制作和无掩膜直写，是微光学、MEMS、封装和集成电路制造等中非常重要的光刻研究工具。

在激光直写设备中，德国Heidelberg（海德堡）占比26%，而国内的苏大维格光刻机也占据了一定市场。

好在2022年9月13日，国家决定对部分领域设备更新改造贷款阶段性财政贴息，政策面向高校、职业院校、医院、中小微企业等九大领域的设备购置和更新改造。贷款总体规模预估为1.7万亿元。

于是从去年11月份以来，各大高校发布了众多半导体设备采购意向,共含45项采购意向，其中16项为电子束曝光机,总预算约3.5亿元。

采购预算最高的是华中科技大学的1台深紫外DUV光刻机，价值4200万元，

其次是清华大学的2台电子束曝光机，价值3000万元，第三位则是武汉大学的2800万采购的1台3D电子束曝光机。

CABL-UH110E光刻机

当2023年到来的时候，同济大学物理科学与工程学院采购的一台超高分辨率的电子束光刻已完成采购，这套采购价格2399万元的光刻机系统，是来自日本CRESTEC公司的CABL-UH110E。

现在，芯片完全国产化的道路相当曲折，这个过程也并不容易，这样需要大家的支持和关注。同时我们也可以多关注这个行业的发展，多传播正面的信息，让更多的人了解国产半导体的发展现状和前景。

总的来说，非常期待国产半导体能够砥砺前行，取得更大的进步。让我们一起加油吧！如果你有什么好的建议或者想法，欢迎在评论区分享。